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华为新机突然上架国内可靠的配资平台，西方惊呼：没有EUV，中国芯片怎么做到的？ 答案藏在合肥某实验室——一台国产光刻机正用'魔法攻克物理极限'，这束光，或将撕开10年技术封锁！ ASML已向英特尔交付全球首台第二代High NA EUV光刻机EXE:5200B，其光学系统数值孔径跃升至0.55，可单次曝光实现5nm工艺，将率先用于2nm芯片量产；同时正携手蔡司研发Hyper NA技术，为未来十年芯片制造突破储备光学解决方案。 上海微电子28nm DUV光刻机量产在即，实测良率达82%，固态光源